在真空环境下对高速等离子体镀层过程反射率的实时监测是光谱学测量的一项应用。

Avantes对在真空环境下测量有着丰富的经验，并提供各种仪器和配件以满足真空光谱学的需要。这些技术经常用于点检测等复杂的过程控制监控。可以对一个峰值或一定的波长范围进行监测，以检测出一个在过程结束时光谱偏移带来的拐点。在进行高真空(~10-3 torr)和超高真空(~10−9 torr)测量时，需要特别注意所选用的光谱仪和光纤。Avantes对在真空环境下测量有着丰富的经验，并提供各种仪器和配件以满足真空光谱学的需要。